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當前位置：首頁產品中心玻璃反應釜高壓光學觀察倉1-MIC-G高壓光學腔

高壓光學腔
產品簡介：

高壓光學腔
用于高壓取樣等環境光譜分析，體積：10ml，5ml,等。光程：0.5cm,1cm,2cm,3cm,5cm,10cm,20cm

產品型號：1-MIC-G

更新時間：2025-02-19

廠商性質：生產廠家

訪問量：2213

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產品介紹
品牌KTIMES/捷鈦儀器價格區間5萬-10萬
組件類別光學元件應用領域綜合

高壓光學腔

用于高壓取樣等環境光譜分析，體積：10ml，5ml,等。

微生物培養，聚合物濃度，深海取樣等等

高壓光學腔

高壓光學腔

光程：0.5cm,1cm,2cm,3cm,5cm,10cm,20cm

壓力：1MPa, 5Mpa，10Mpa,15Mpa，20Mpa,30Mpa,50Mpa,60Mpa,100Mpa

溫度：-20℃-200℃


高壓光學腔


適用光譜儀：紫外，紅外，拉曼，高清CCD等，根據不同工況要求定制


高壓光學腔


該裝置可模擬相當于0-15000米水深處的壓力條件，配合適當的控溫設備，可用于全海深樣品的微生物培養，為研究深海微生物的生理代謝特征及壓力適應機制提供技術保障。高壓模擬光學分析倉，該裝置配合分光光度計使用，可進行最高達500MPa壓力條件下的吸光值檢測。高壓模擬顯微觀察倉：該裝置配合光學倒置顯微鏡使用，最高可耐受400MPa壓力，可用于高壓條件下觀察細胞形態，細胞運動特征分析。



該裝置可模擬相當于0-15000米水深處的壓力條件，配合適當的控溫設備，可用于全海深樣品的微生物培養，為研究深海微生物的生理代謝特征及壓力適應機制提供技術保障。高壓模擬光學分析倉，該裝置配合分光光度計使用，可進行最高達500MPa壓力條件下的吸光值檢測。高壓模擬顯微觀察倉：該裝置配合光學倒置顯微鏡使用，最高可耐受400MPa壓力，可用于高壓條件下觀察細胞形態，細胞運動特征分析。


該裝置可模擬相當于0-15000米水深處的壓力條件，配合適當的控溫設備，可用于全海深樣品的微生物培養，為研究深海微生物的生理代謝特征及壓力適應機制提供技術保障。高壓模擬光學分析倉，該裝置配合分光光度計使用，可進行最高達500MPa壓力條件下的吸光值檢測。高壓模擬顯微觀察倉：該裝置配合光學倒置顯微鏡使用，最高可耐受400MPa壓力，可用于高壓條件下觀察細胞形態，細胞運動特征分析。




 

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